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山東力冠微電子裝備

產(chǎn)品展示


半導(dǎo)體專用設(shè)備

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產(chǎn)品 新聞 下載
2023年中國半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展趨勢預(yù)測分析

2023年中國半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展趨勢預(yù)測分析


隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進步,半導(dǎo)體器件集成度不斷提高。一方面,芯片工藝節(jié)點不斷縮小,且還在向更先進的方向發(fā)展;另一方面晶圓的尺寸卻不斷擴大。此外,半導(dǎo)體器件的結(jié)構(gòu)也趨于復(fù)雜,通過增加立體層數(shù),解決平面上難以微縮的工藝問題。這些對半導(dǎo)體專用設(shè)備的精密度與穩(wěn)定性的要求越來越高,未來半導(dǎo)體設(shè)備將向高精密化與高集成化方向發(fā)展。

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